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鋁型材陽極氧化膜、陽極氧化復(fù)合膜的膜厚渦流測量方法
1:鋁型材陽極氧化膜的膜厚測量方法
陽極氧化膜或陽極氧化復(fù)合膜的厚度測量方法有渦流測量方法和顯微鏡截面測量方法;顯微鏡截面測量法是破壞性測量方法,也就是從測量對象上截取試片,將測量部位截面拋光成鏡面后,使用測微儀器讀取厚度的方法,能夠比較精確地測量膜層厚度;可是,在實際的鋁型材產(chǎn)品中,由于不能破壞鋁型材進行測量,因此常采用無損測量方法—渦流測量法;
(鋁型材陽極氧化膜渦流測量方法示意圖)
渦流測量方法不像顯微鏡截面測量方法,在測量前不需要對鋁型材進行復(fù)雜的處理,只要對渦流測厚儀進行適當校正就可以進行測量了,因此渦流測量方法使用廣泛;
2:渦流測厚儀的原理
上圖所示為渦流測量方法的測量原理,內(nèi)設(shè)高頻感應(yīng)線圈的探頭中通高頻電流,探頭接近試片時,因高頻電流產(chǎn)生的電磁感應(yīng),在鋁型材基體上產(chǎn)生渦流;
這種渦流的流動方向起到妨礙探頭感應(yīng)線圈的電流通過的作用;這種作用的大小程度就表示探頭與鋁型材基體間的距離不同,探頭與鋁型材基體間的距離也就是測量的膜厚;測定鋁型材陽極氧化膜的膜厚時,使用非磁性金屬上絕緣膜厚度測定的儀器;
高頻電流容易通過導(dǎo)體的表面,這種現(xiàn)象稱為表面效應(yīng);這種表面效應(yīng)產(chǎn)生的電流滲透深度與高頻電流的頻率和鋁型材基體的電導(dǎo)率有關(guān),鋁型材基體厚度至少為該滲透深度的2.5倍;探頭中通過的高頻電流的頻率因測量儀的制造商的不同而有差別,因此這個滲透深度也因各儀器廠商而存在差別;
3:鋁型材陽極氧化膜厚測量時的注意事項
影響測量結(jié)果的主要因素有鋁型材基體材質(zhì)、鋁型材形狀、測量儀及測量者相關(guān)的因素等;測定值根據(jù)這些因素如何變化?需要事先掌握這些因素;采用A1050P的鋁型材基體校準測量儀為0,測量其他材質(zhì)板材的陽極氧化膜的厚度如下圖所示,同樣使用A1050P的鋁型材基材校正為0,接著使用各種粒度的砂紙打磨相同材料表面時,表面粗糙度與外觀膜厚的關(guān)系如下圖所示;另外,手持探頭操作時,容易產(chǎn)生由于探頭溫度的變化和探頭壓角引起的偏差,為了降低這些偏差,使用探頭支架是非常有效的;探頭形成用一定壓力使探頭的尖端壓在鋁型材的表面結(jié)構(gòu);測試較軟涂層時,要確認涂層是否會因探頭下的壓力而產(chǎn)生凹陷;
(各種鋁型材基體得到的陽極氧化膜厚度)
①鋁型材基體材質(zhì)相關(guān)因素:電導(dǎo)率、含金屬間化合物的金相組織;
②鋁型材基體形狀相關(guān)因素:基體厚度、距端部距離、表面彎曲狀態(tài)、表面粗糙度(含氧化膜表面);
③測量儀及測量者相關(guān)因素:探頭溫度、探頭壓力、探頭壓下角度、探頭的清潔度;
4:渦流測厚儀的管理及校準用標準板
使用渦流測厚儀時,儀器校準是前提;在渦流測厚儀的校準中,必須使用與試驗材料相同材質(zhì)及表面粗糙度的鋁型材基體;曲面或端面位置影響測量,需要使用同一基體和位置進行校準方可測量;
JIS H8680-2-1998附錄中記載了渦流測厚儀測量值重現(xiàn)性的功能檢定,為校準儀器制作校準用標準板、制作管理用標準板即陽極氧化膜厚度標準試樣;使用這種管理用標準板進行儀器的管理,一定的管理幅度內(nèi)的測量值的確認是最重要的;在實際試驗中,使用這種管理用標準板得到標準時,最初使用管理用標準板校準過的儀器測定校準用標準板的陽極氧化膜厚度,接著從同一批次中取出一片校準用標準板,用顯微鏡截面法測定其陽極氧化膜厚度;要求計算出這種校準用標準板的測量值與用渦流測量法測定值之間的修正系數(shù),使用修正系數(shù)得到修正后的測量值;管理用的標準板或含塑料膜的校準用標準板因使用時間長而老化,因此希望根據(jù)使用頻率更新;
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